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產(chǎn)品型號：STGX-80-14

爐管尺寸：Φ80×1000mm

額定溫度：1400℃

控溫精度：±1℃

應用領域：用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)等行業(yè)實驗室高溫熱處理工藝，適用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域

產(chǎn)品型號：STQ-20-17

爐膛尺寸：250*320*250mm

最高溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結(jié)構(gòu)，在材料的熱處理過程中，可以通入氮氣、氬氣、氧氣等保護氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質(zhì)材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結(jié)

產(chǎn)品型號：STQ-500-14

爐膛容積：500L

額定溫度：1400℃

控溫精度：±1℃

應用領域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結(jié)構(gòu)，在材料的熱處理過程中，可以通入氮氣、氬氣、氧氣等保護氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質(zhì)材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結(jié)

產(chǎn)品型號：STGP-80-12

爐膛尺寸：Φ80x1200mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：PECVD系統(tǒng)（等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)）由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成， 本設備借助13.56Mhz的射頻輸出使含有薄膜組成原子的氣體電離，在真空腔體內(nèi)形成等離子體，利用等離子的強化學活性，改善反應條件，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學反應，從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術，得到基片上沉積出所期望的薄膜，適用于1200℃條件下進行SiO2、SiNx薄膜的沉積。

產(chǎn)品型號：STGX-150-12Q

爐管尺寸：Φ150×1500mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：該產(chǎn)品廣泛應用于3D增材制造、新能源材料和粉末新材料行業(yè)的中試燒結(jié)和產(chǎn)品批量熱處理

產(chǎn)品型號：STG-120-12-3

爐膛尺寸：Φ120×1500mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：三溫區(qū)管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結(jié)和高溫熱處理。

產(chǎn)品型號：STQ-90-17

爐膛容積：90L

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結(jié)構(gòu)，在材料的熱處理過程中，可以通入氮氣、氬氣、氧氣等保護氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質(zhì)材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結(jié)。

產(chǎn)品型號：STM-1-10

爐膛尺寸：100 x100x100mm

額定溫度：1000℃

控溫精度：±1℃

應用領域：1000℃mini馬弗爐(箱式電阻爐)主要應用于高等院校、科研院所、環(huán)境監(jiān)測、醫(yī)療等行業(yè)的新材料領域的燒結(jié)和高溫熱處理。

產(chǎn)品型號：STQ-8-12

爐膛尺寸：200 x300*120mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結(jié)構(gòu)，在材料的熱處理過程中，可以通入氮氣、氬氣、氧氣等保護氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質(zhì)材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結(jié)。

產(chǎn)品型號：STM-36-14PRO

爐膛尺寸：300*400*300mm

額定溫度：1400℃

控溫精度：±1℃

應用領域：1400℃馬弗爐(箱式電阻爐)應用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域的燒結(jié)和高溫熱處理。

產(chǎn)品型號：STM-12-17

爐膛尺寸：200*300*200mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：1700℃馬弗爐(箱式電阻爐)應用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結(jié)和高溫熱處理。

產(chǎn)品型號：STG-60-12

爐膛尺寸：Φ60x1000mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：應用于高等院校、科研院所、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、納米材料、粉末冶金等新材料領域的燒結(jié)和高溫熱處理。